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中美合资合肥科晶材料技术有限公司
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双靶磁控溅射仪

产品名称:双靶磁控溅射仪

产品型号:VTC-600-2HD

产品报价:

产品特点:双靶磁控溅射仪是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪,其中一个靶头采用直流(DC)溅射,可溅射金属靶材制备金属膜,另一个采用射频(RF)溅射,可溅射金属和氧化物靶材,制备金属或氧化物膜.设备上安装有薄膜测厚仪可以实时监测薄膜的厚度。此设备可制作各种单层或多层薄膜,如铁电、导电,合金,半导体,陶瓷,介电,光学,氧化物和PTFE薄膜等。而且设备体积较小操作方便,是一套理想的实验工具。

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪的详细资料:

技术参数

结构

(点击图片查看详细资料)

输入电源

  • 220VAC 50/60Hz, 单相
  • 2000W  (包括泵)

溅射电源

  • 安装有两个溅射电源
  • 直流(DC)电源:500W,针对于制作金属膜
  • 射频(RF)电源:600W,可制作氧化物和金属膜
  • 同时可选配300W的射频电源

磁控溅射头

  • 仪器中安装有2个磁控溅射头,而且都带有水冷夹层,可通入冷却水对靶材降温
  • 其中一个溅射头与射频电源相连接,主要是溅射绝缘性靶材
  • 另一个溅射头与直流电源相连接,主要溅射导电性靶材
  • 靶材尺寸要求:金属靶:直径为50mm,zui大厚度1。5mm
  •              陶瓷靶:直径为50mm,zui大厚度6mm
  • 仪器中标配一个不锈钢靶和氧化铝陶瓷靶
  • 溅射头所需冷却水:流速10ml/min(仪器中配有一台流速为16ml/min的循环水冷机)

也可以根据自己的要求选择2个射频溅射头或3个射频溅射头,订购前需于本公司销售人员

真空腔体

  • 真空腔体:300 mm Dia x 300 mm h,采用不锈钢制作
  • 观察窗口:  100 mm diameter
  • 腔体打开方式采用上顶开,使得换靶更加容易

载样台

  • 载样台尺寸:140mm dia.(zui大可放置4"的基底)
  • 载样台可以旋转,其速度为:1 - 20 rpm (可调)
  • 载样台zui高可加热温度为500℃,控温精度为+/- 1.0 °C

气体流量控制器

  • 仪器内部安装有2个质量流量计
  • 量程为:0-200sccm
  • 气体流量设置可以在6英寸的触摸屏上进行操作

真空泵系统

配有一套分子泵系统(德国制作),采用一键式操作

薄膜测厚仪

  • 一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上,可实时监测薄膜的厚度,分辨率为0.10 Å  
  • LED显示屏显示,同时也输入所制作薄膜的相关数据

外形尺寸

L1300mm× W660mm× H1200mm

重量

160 kg

质保期

一年质保期,终生维护

 

 

 如果你对VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪感兴趣,想了解更详细的产品信息,填写下表直接与厂家联系:

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主营产品:1100℃微型箱式炉,3.4升1400℃箱式炉,1800℃小型箱式炉,1200℃开启式管式炉,双温区管式炉,小型真空管式炉
 

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