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  • EQ-TM106膜厚监测仪是采用石英晶体振荡原理,结合先进的频率测量技术,进行膜厚的在线监测。主要应用于MBE、OLED热蒸发、磁控溅射等设备的薄膜制备过程中,对膜层厚度及镀膜速率进行实时监测。根据实时速率可以输出PWM模拟量,作为膜厚传感器使用,与调节仪和蒸发电源配合实现蒸发源的闭环速率控制。
  • VTC-2DC是一款小型的直流(DC)等离子体磁控溅射镀膜仪系统,系统中包含了所有所需的配件,如500W(600V)的DC电源、2英寸的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜,它是一款物美价廉的实验手。
  • VTC-2RF是一款小型的射频(RF)等离子体磁控溅射镀膜仪系统,系统中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF电源、2“的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜,它是一款物美价廉的实验帮手。
  • VTC-1RF是一款小型台式单靶等离子溅射仪(射频磁控型),配有1英寸的磁控等离子溅射头和射频(RF)等离子电源,此款设备主要用于制作非导电薄膜,特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索,它是一款廉价并且高效的实验帮手。
  • VTC-600-2HD是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪,其中一个靶头采用直流(DC)溅射,可溅射金属靶材制备金属膜,另一个采用射频(RF)溅射,可溅射金属和氧化物靶材,制备金属或氧化物膜.设备上安装有薄膜测厚仪可以实时监测薄膜的厚度。此设备可制作各种单层或多层薄膜,如铁电、导电,合金,半导体,陶瓷,介电,光学,氧化物和PTFE薄膜等。而且设备体积较小操作方便,是一套理想的实验工具。
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